產品概述

該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(矽，單晶矽，多晶矽)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬塗層(碳化矽，類金剛石炭)，聚合物塗層(聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

測量範圍: 1 nm -50um

波長範圍: 200 nm -1000 nm

MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用於實時在線測量，多層測量，非均勻塗層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。

測量指標：薄膜厚度，光學常數

界麵友好: 一鍵式測量和分析。

實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。

（MProble NIR薄膜測厚儀係統示 ）

案例1，73nm SiN氮化矽薄膜的測量

矽晶圓反射率，測量時間10ms

使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值