當一束光入射到薄膜表麵時,薄膜上表麵和下表麵的反射光會發生幹涉,幹涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基於此原理來測量薄膜厚度。
反射膜厚儀是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。
測量範圍: 1 nm - 1 mm
波長範圍: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2um -3 um
標準配置中包含:
1. 主機(光譜儀,光源,電線)
2. 反射光纖
3. 樣品台及光纖適配器
4. TFCompanion軟件
5. 校準套裝
6. 測試樣品,200nm晶圓
廣泛的應用於各種工業生產及工藝監控中:
半導體晶圓,薄膜太陽能電池,液晶平板,觸摸屛,光學鍍膜,聚合物薄膜等
半導體製造:·光刻膠·氧化物·氮化物
光學鍍膜:·硬塗層·抗反射塗層·濾波片
生物醫學:·生物膜厚度·硝化纖維
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